去年6月从GCA引进的180nm制程工艺的半导体生产现花费了20亿美元（包括基建工程和培训等），其中4亿美元的订单给了BSEC。
BSEC在9月13日研制成功180nm制程工艺的光刻机，如今已能量产，还没有拿到订单，虽然同GCA和Nikon还有一代的技术差距，但申请公司发明专利的同时广而告之，给Nikon和美国商务部施压。
今年7月后，ASML、Canon、SVG先后研制成功90nm制程工艺的光刻机，给GCA和Nikon很大的压力，不得不降价。
全球半导体产业从今年第4季度开始，订单同比明显减少，专家预测，衰退周期已经开始，光刻机产业也不能避免，账上有50亿多美元现金流的GCA，在5月份的董事会上，孙董事长已做出决定，生产部门除完成订单业务外，将停止生产。生产部门的管理层和普通员工，除了享受带薪休假外，停工期间，生产部门的管理层和普通员工将降薪50%，回家休息，大家共渡难关。
GCA和Nikon去年3、5月就先后量产了12英寸晶圆、90nm制程工艺的光刻机，但如今都被193nm波长的世界性难题卡住了。
科学家们发现，193nm波长光刻机的极限制程工艺是90nm，再往下就很难实现了，如何突破90nm，跨入65nm制程工艺，成为阻挡在所有光刻机公司面前的拦路虎。
虽然提出了157nm干式光刻技术和EUV技术，但一晃过去近2年，GCA和Nikon的科学家们还没有攻克65nm制程工艺，不然的话，早就研发成功65nm制程工艺，甚至45nm制程工艺的光刻机了。
前世，光刻机产业在193nm波长上卡了将近20年！
BSEC研究院集中力量正在研制90nm制程工艺的光刻机，一旦研制成功，在光刻机行业就可以同GCA和Nikon等公司平起平坐了。